1.
选择帮助 > 样本数据库,然后打开 Variability Data/Wafer.jmp
2.
选择分析 > 质量和过程 > 测量系统分析
3.
Y 分配给 Y,响应角色。
4.
晶圆分配给部件,样本 ID 角色。
5.
操作员分配给 X,分组角色。
请注意,MSA 方法设置为 EMP散度图类型设置为极差模型类型设置为交叉
6.
点击确定
平均图和极差图
平行性图
复测误差比较
偏倚比较
EMP 结果
偏移检测刻画器
我们来探索一下在均值偏移之后的 10 个子组中检测到大小为两个部件标准差偏移的能力。点击部件均值偏移值 2.1701,将它更改为 4.34(2.17 乘以 2)。检测到两个部件标准差的偏移的概率为 56.9%。
接着,查看消除偏倚如何影响检测到两个部件标准差的偏移的能力。将偏倚因子标准差值从 1.1256 更改为 0。检测到偏移的概率增加到 67.8%。
您还可以探索使用较大的子组大小对控制图的影响。对于 2 或更大的子组大小,控制图为均值图。将偏倚因子标准差值改回 1.1256,只选择第一个检验。在刻画器中将子组大小设置为 4。此时检测到两个部件标准差偏移的概率为 98.5%。
有效分辨率