发布日期: 11/15/2021

刻画介绍

使用一个输入因子 X 和一个输出因子 Y 很容易直观演示响应曲面。因子和响应数量越多就越难演示。JMP 中的刻画器可提供任意响应曲面的若干高度交互式横截面视图。在本指南中,我们使用以下可互换的术语:

因子、输入变量、X 列、自变量、设置、项

响应、输出变量、Y 列、因变量、结果

意愿刻画和优化功能有助于发现适合的因子设置并生成满意的响应。多数刻画器还支持多线程处理以加快计算。在因子存在变异而您需要稳健和高质量的响应时,可利用模拟和缺陷刻画功能。

JMP 中的刻画器功能

“刻画器”启动窗口

拟合组

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