线上直播研讨会：JMP 零基础入门系列 ②

让制程品质一目了然！JMP 品质提升入门：从制程监控到问题发现

活动时间：2026 年 12 月 10 日（周四）北京时间 14:00 – 15:00

活动地点：Zoom（报名完成后，确认邮件将提供参会链接）

活动讲师：邵博凌 (Boling Shao)｜JMP 技术工程师

参与对象：从事研发、生产、工艺、质量管理或数据分析相关工作的专业人士

课程难度：零基础至中级用户。强烈建议对 JMP 完全不熟悉者，先观看本系列第一课回放，再参加本次课程，学习效果更佳。

课程费用：免费

您在日常品质管理中，是否常常面对这样的挑战：生产过程中有大量品质指标需要持续监控，却不知道哪些异常最值得关注？发现良率下降或制程波动后，又该如何进一步从数据中寻找问题线索？

诚挚邀请您参加 2026 年全新 JMP 入门系列网络研讨会第二场「品质提升入门」。

本次课程将从实际品质管理场景出发，以数据驱动的持续品质改善为主线，带您了解如何利用 JMP 从制程监控开始，快速筛选值得关注的品质问题，并进一步评估过程能力、探索趋势与异常，逐步建立简单、直观的数据驱动品质分析思路。无论您从事质量管理、生产制造或工艺改善，都可以从基础方法入手，更高效地从数据中发现问题、理解问题并支持品质改善。

本次网络研讨会亮点：

我们将演示如何借助插件将所有 DMAIC 文档、图表、数据与工作流整合于单一平台，重点内容包括：

• 制程稳定性监控

  从 SPC 控制图入手，直观了解制程随时间的变化，快速识别异常波动与潜在的特殊原因。

• 批量过程筛选

  面对大量产品、参数或制程指标，通过 Process Screening 快速筛选需要优先关注的过程，让品质分析更有重点。

• 过程能力评估：

  结合规格要求了解过程能力表现，通过 Cp、Cpk 等常用指标，快速判断制程是否能够稳定满足品质要求。

• 趋势与异常探索：

  通过直观的数据探索与可视化方法观察品质变化趋势，进一步定位异常发生的时间、范围及可能相关的条件。

• 问题分析与改善线索：

  从发现异常进一步走向问题分析，通过数据比较与探索寻找潜在影响因素，为后续根因调查与品质改善提供方向。

适合参加的人：

从事质量管理、生产制造、工艺改善、研发及数据分析相关工作的专业人士，涵盖半导体、电子、光电、化工、生物医药等制造与研发领域。

无论您是 JMP 初学者，还是希望利用数据更快速地发现和分析品质问题，本次课程都适合您。

课程系列介绍：

JMP 19 零基础入门系列 ①｜数据分析不再瞎忙！JMP 19 全新入门：从杂乱数据直通报告视觉自动化
点击观看回放（强烈建议对 JMP 完全不熟悉者，先观看本系列第一课回放，再参加本次课程，学习效果更佳。）

JMP 19 零基础入门系列 ③｜DOE 实验设计：告别试错，用结构化 DOE 思维、定制化设计与 Easy DOE 平台快速找到最佳参数。
（2027 年 2 月，敬请期待）