분석 > 선별 > 공정 기록 탐색기를 선택하여 공정 기록 탐색기 플랫폼을 시작합니다.
그림 28.3 공정 기록 탐색기 시작
"열 선택" 빨간색 삼각형 메뉴의 옵션에 대한 자세한 내용은 JMP 사용의 "Column Filter Menu"에서 확인하십시오.
ID
공정의 유닛을 식별하는 하나 이상의 열을 지정합니다.
참고: ID 열은 수율 테이블에 해당 열이 있어야 합니다.
X, 공정
공정 단계를 구성하는 성분 또는 특정 상세 정보를 식별하는 하나 이상의 열을 지정합니다.
단계
유닛이 거쳐 가는 단계 및 하위 단계를 지정하는 선택적 열입니다. 예를 들어 Layer와 해당 Layer 내의 Operation 유형입니다.
타임스탬프
작업 시간을 지정합니다. 시간은 단일 시점으로 지정하거나, 작업 시작 및 종료 시간을 나타내는 한 쌍의 시점으로 지정할 수 있습니다.
순서
유닛 배치가 "X, 공정" 역할에 지정된 성분을 거쳐 가는 순서를 지정하는 선택적 열입니다.
기준
기준 변수의 각 수준에 대해 개별 보고서를 생성합니다. 기준 변수가 둘 이상 할당되면 기준 변수의 가능한 각 수준 조합에 대해 개별 보고서가 생성됩니다.
목표: Y 최소화
분석 목표가 반응을 최소화하는 것임을 지정합니다. 기본적으로 분석은 반응을 최대화하려고 합니다.
참고: 반응은 플랫폼을 시작할 때 사용된 데이터 테이블이 아니라 두 번째 데이터 테이블에 지정됩니다.
공정 기록 탐색기에 사용할 데이터는 두 개의 데이터 테이블에 지정되어야 합니다. 첫 번째 테이블은 플랫폼을 시작하는 데 사용되며 공정의 단계 및 상세 정보를 포함합니다. 두 번째 테이블은 ID 열의 각 수준에 대한 반응 또는 수율을 포함합니다.
Quality Control > Lot Wafer History 및 Quality Control > Lot Wafer Yield 샘플 데이터 테이블은 데이터가 두 데이터 테이블에 지정되는 방식을 보여 주는 예입니다.