刻画器指南 > 刻画器介绍 > 刻画介绍 > JMP 中的刻画器功能
发布日期: 04/13/2021

JMP 中的刻画器功能

JMP 中提供了若干刻画器工具,可通过若干拟合平台和“图形”下的主菜单来访问这些工具。这些工具用于刻画数据列公式。

表 2.1 刻画器功能汇总 

 

说明

功能

预测刻画器

显示各因子的垂直切片,令其他因子保持当前值

意愿,优化,模拟器,误差传播

等高线刻画器

水平切片,可同时为两个因子显示等高线

模拟器

曲面刻画器

同时为两个因子显示三维响应图,或同时为三个因子显示等高线曲面图

曲面可视化

混料刻画器

混料因子的等高线刻画器

三元图和等高线

定制刻画器

非图形化刻画器和数值优化器

常规优化,模拟器

Excel 刻画器

直观演示存储在 Excel 工作表中的模型(或公式)。

使用 Excel 模型刻画

Table 2.2显示了刻画器的可用性。 “定制刻画器”仅可通过“图形”菜单来使用。(在“模型比较”中不能使用“定制刻画器”。)

表 2.2 JMP 刻画器的提供位置 

位置

刻画器

等高线刻画器

曲面刻画器

混料刻画器

“图形”菜单(作为一个平台)

拟合模型: 最小二乘法

拟合模型: 广义回归

 

 

 

拟合模型: 混合模型

拟合模型: Logistic

 

 

 

拟合模型: 对数线性方差

 

拟合模型: 广义线性模型

 

拟合模型: 偏最小二乘

 

 

 

神经

 

模型比较

非线性: 因子和响应

 

非线性: 参数和误差平方和

 

非线性: 拟合曲线

 

 

 

高斯过程

 

偏最小二乘

 

 

 

寿命分布

 

 

 

以 X 拟合寿命

 

 

再现分析

 

 

 

选择

 

 

 

定制设计预测方差

 

 

需要更多信息?有问题?从 JMP 用户社区得到解答 (community.jmp.com).