刻画器

探索每个因子的响应横截面

“预测刻画器”可为您提供关于模型的大量丰富信息。使用“预测刻画器”可以：

• 查看在您更改各个因子的设置时，您的预测模型如何变化。

• 为一个或多个响应设置意愿目标，找出因子的最佳设置。

• 测量模型对于因子更改的灵敏度，灵敏度基于您的预测模型。

• 采用与模型无关的方式评估因子相对于模型预测的重要性。

• 基于针对因子和响应的指定分布模拟响应分布，并控制刻画器外观的各个方面。

具有模拟器和重要性颜色的四响应“预测刻画器” 

目录

预测刻画器的示例

启动“预测刻画器”平台

“预测刻画器”选项

意愿刻画和优化

意愿函数的构造

如何使用意愿函数

意愿刻画

定制意愿函数

评估变量重要性

Bagging

预测刻画器的其他示例

多重响应的意愿刻画示例

预测刻画器中噪声因子的示例

一个响应的变量重要性的示例

多重响应的变量重要性的示例

Bagging 改进预测的示例

指示预测准确度的 Bagging 示例

预测刻画器的统计详细信息

评估变量重要性

误差传播直条

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